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可加工形狀圓形、矩形、多邊形及其他形狀 尺寸范圍直徑(最大對角線):Φ8-Φ100mm 厚度:0.05-50mm 面型反射PV優(yōu)于1/4λ,透射PV優(yōu)于1/10λ 光潔度10-5 20-10 40-20 表面粗糙度小于5nm 平行度小于20″ 鍍膜可根據(jù)客戶要求定制鍍膜
砷化鎵(GaAs)晶體的化學穩(wěn)定性好,硬度高,抗惡劣環(huán)境能力*。它在2000nm-14000nm光譜范圍內有很好的透過率,廣泛應用于熱紅外成像系統(tǒng),大功率CO2激光光學系統(tǒng)和FLIR系統(tǒng),在現(xiàn)場環(huán)境很差,光學鏡頭和窗口需要反復擦拭的情況下,砷化鎵常被用來代替硒化鋅作為紅外鏡頭或窗口的材料。
氟化鋇(BaF2)在200-9500nm光譜范圍有接近90%的光學透過率。通常應用于低溫制冷成像系統(tǒng)、航天光學系統(tǒng)和激光光學系統(tǒng)中的透鏡、分束鏡、濾光片、棱鏡和窗口等。該材料有一定的水溶解,只適合在干燥環(huán)境下使用。
可加工形狀圓形、矩形、多邊形及其他形狀 尺寸范圍直徑(最大對角線):Φ8-Φ300mm 厚度:0.05-50mm 面型反射PV優(yōu)于1/4λ,透射PV優(yōu)于1/10λ 光潔度10-5 20-10 40-20 表面粗糙度小于5nm 平行度小于20″ 鍍膜可根據(jù)客戶要求定制鍍膜
CVD硒化鋅是一種化學惰性材料,具有純度高,環(huán)境適應能力強,易于加工等特點。它的光傳輸損耗小,具有很好的透光性能。是高功率CO2激光光學元件的材料。由于該材料的折射率均勻和一致性很好,因此也是前視紅外(FLIR)熱成像系統(tǒng)中保護窗口和光學元件的理想材料。同時,該材料還廣泛應用于醫(yī)學和熱輻射測量儀和紅外光譜儀中的窗口和透鏡。
鍺(Ge)單晶是一種化學惰性材料,它的透射光譜范圍為2-12μm,是一種常用的紅外光學材料。具有硬度高、導熱性好、不溶于水等特點。廣泛應用于紅外成像系統(tǒng)和紅外光譜儀系統(tǒng)。鍺單晶的機械性能和導熱性能好,在10.6μm的吸收很小,用鍺單晶加工的窗口是CO2激光的,也能用來制作各種濾波器的基板
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